格裏爾斯GRYLLS為金剛石行業定製氣路盤

高等級鑽石生長的工藝是采用化學氣相沉積（CVD）和微波等離子體(ti) CVD（MPCVD）技術，另外CVD和MPCVD工藝還可用於(yu) 在鑽石以外的基材上進行鑽石沉積，這為(wei) 許多行業(ye) 帶來了技術上的進步，如光學、計算機科學和工具生產(chan) 。

在采用CVD和MPCVD工藝進行鑽石生長過程中，需要嚴(yan) 格調節和控製CVD工藝的溫度、真空壓力和氣體(ti) 成分，這三個(ge) 變量中的任何一個(ge) 變化或波動都會(hui) 影響鑽石的生長速度、純度和顏色。這三個(ge) 變量在實際工藝中分別代表了溫度、真空壓力和工作氣體(ti) 的質量流量，即在CVD工藝中一般是在進氣口處采用氣體(ti) 質量bv伟德登录入口控製氫氣和甲烷以達到設定的混合氣體(ti) 成分，通過溫度傳(chuan) 感器和加熱裝置來調節和控製工作腔室內(nei) 的溫度，最後在出氣口處通過真空計和電動閥門來調節和控製工作腔室內(nei) 的真空壓力。

 針對以上氣體(ti) 質量流量的控製環節，格裏爾斯GRYLLS開發了CVD（MPCVD)金剛石行業(ye) 專(zhuan) 用特氣氣路盤，該產(chan) 品以隔膜閥，單向閥，EP級彎頭，微米級過濾器，質量bv伟德登录入口MFC等零部件實現對多種工藝氣體(ti) 的精確流量控製。

  經過多年研發和經驗的沉積，格裏爾斯GRYLLS質量流量計的氣路盤，具有高密封性，高精度，集成度高等優(you) 點，產(chan) 品成熟穩定已經在多個(ge) CVD(MPCVD）生產(chan) 企業(ye) 得到應用，為(wei) 用戶減少了研發、組裝、驗證時間，大大降低了用戶的總體(ti) 生產(chan) 成本。

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